![除静电装置 [SHISHIDO 静电株式会社]](/img/logo-zh.png){kind=logo}
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沿革
| 2018年 (平成30年) |
10月 | 相关公司SHISHIDO公司因被SHISHIDO静电吸收合并而消失 |
|---|---|---|
| 2015年 (平成27年) |
11月 |
第24届RCJ信赖性研讨会上，获得优秀论文奖
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| 2013年 (平成25年) |
6月 | 将仙台营业所搬迁至仙台市青叶区 |
| 2010年 (平成22年) |
8月 | 将北陆办事处与名古屋营业所统合 |
| 2009年 (平成21年) |
1月 |
新建新宫城工厂（旧宫城工厂关闭）
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| 2007年 (平成19年) |
7月 | 获得经济产业省给付的“地域新产业创造技术开发费补助金”。 （技术开发题目“用于应用了微束等离子的贴片机的电离器等产品开发” |
| 3月 |
取得ISO9001:2000认证
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新型高压电源系统「HDC-AC」完成
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| 2005年 (平成17年) |
7月 |
在横滨市都筑区新建新横滨工厂（旧横滨工厂关闭）
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| 2004年 (平成16年) |
9月 |
由于开发出喷嘴式高频型除静电装置而获得静电学会进步奖
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| 7月 | 创建新组织「研究开发中心」 | |
| 4月 | 在宫城县石越町设立宫城工厂 | |
| 静电学会 儿玉勉副会长 就任本公司特别顾问 | ||
| 2003年 (平成15年) |
5月 | 与高砂热学工业进行软X射线型除静电装置的销售业务合作 |
| 2001年 (平成13年) |
2月 | 与横河电子机器进行除静电装置的销售业务合作 |
| 1998年 (平成10年) |
5月 | 与Sony Precision Magne（现为Sony Chemical & Information Device）在共同研究、生产、销售方面进行业务合作 |
| 1996年 (平成8年) |
9月 | 伴随着丸大厦的再开发，将总部搬移至新丸大厦（2014年9月迁回丸大厦） |
| 1988年 (昭和63年) |
11月 | 相关公司「シシドコーポレーション」成立（资本金1,000万日元） |
| 10月 | 創纪念创立50周年，在大田区雪谷建设SHISHIDO大厦（东京营业所搬迁） | |
| 1986年 (昭和61年) |
8月 | 获得政府首次发放的东京都中小企业新产品、新技术开发补助金（1987年8月第2次、1990年8月第3次获得） |
| 1984年 (昭和59年) |
10月 | 将公司名称变为「SHISHIDO静电株式会社」 |
| 1983年 (昭和58年) |
10月 | 开发出了能为静电基础研究做贡献的静电电阻测定器，因而获得静电学会进步奖 |
| 1980年 (昭和55年) |
3月 | JIS（日本工业规格）认可Honest Meter（半衰期测定器）的带电性实验方法 |
| 1979年 (昭和54年) |
10月 | 由于创业以来，开发独创性的静电相关产品，为产业界做出广泛贡献，因而获得静电学会进步奖 |
| 1976年 (昭和51年) |
8月 | 设立仙台办事处（1990年12月升格为营业所） |
| 1973年 (昭和48年) |
10月 | 在田园调布设立东京工厂 |
| 1970年 (昭和45年) |
4月 | 将东京营业所从总公司中分离， 在大田区石川台设立东京营业 |
| 1969年 (昭和44年) |
2月 | 获得科学技术厅发明实施化实验补助金 |
| 1月 | 获得东京都发明奖励金 | |
| 1968年 (昭和43年) |
4月 | 设立福冈营业所 |
| 1964年 (昭和39年) |
4月 | 在金泽设立北陆营业所 |
| 1960年 (昭和35年) |
9月 | 设立名古屋营业所 |
| 1957年 (昭和32年) |
8月 | 改组为株式会社（资本金500万日元） |
| 1955年 (昭和30年) |
1月 | 设立大阪营业所 |
| 1940～1945年 (昭和15～20年) |
获得国策企业认定，从事防静电措施机器的开发、生产及销售 | |
| 1938年 (昭和13年) |
6月 |
在千代田区丸之内丸大厦7层创建「宍户商会」創設。。着手开发日本首个防静电措施机器（创建为宍户一等4人）
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